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碳化硅晶碇是運(yùn)用金剛石線切割機(jī)切割成晶片的。金剛石線切割機(jī)廣泛用于切割各種金屬和非金屬復(fù)合材料，特別適用于切割高硬度、高價(jià)值、易破碎的各種脆性晶體。與金剛石刀具一樣，金剛石線并不是簡單的一條金剛石。金剛石線是在高碳鋼絲的基礎(chǔ)上進(jìn)行一定的處理，由此在表面形成金剛石鋸齒。現(xiàn)在主流的還是引入金剛石顆粒，不是直接表面合成金剛石。通過表面處理方法的不同，金剛線有如下四種：電鍍金剛線：通過電鍍?cè)诟咛间摻z上固定Ni、金剛石顆粒；樹脂金剛線：通過加熱酚醛類樹脂及添加劑在高碳鋼絲上固定金剛石顆...

高真空蒸發(fā)鍍膜儀采用鎢絲籃作為蒸發(fā)源，蒸發(fā)源上覆蓋有高純氧化鋁坩堝，樣品臺(tái)與蒸發(fā)源之間的距離可調(diào)。該儀器具有高精度的溫度控制系統(tǒng)，并采用循環(huán)加熱的方法來穩(wěn)定地蒸發(fā)金屬和某些有機(jī)物質(zhì)。高純度石英腔用作真空腔，涂層過程*可見。該儀器配有雙極旋轉(zhuǎn)葉片真空泵，可以快速達(dá)到1.0E-1Pa的真空度，可以滿足大多數(shù)蒸發(fā)鍍膜實(shí)驗(yàn)所需的真空環(huán)境。它適用于大多數(shù)金屬和某些有機(jī)材料薄膜的蒸發(fā)和涂層，結(jié)構(gòu)緊湊，體積小巧，是一種經(jīng)濟(jì)高效的實(shí)驗(yàn)室鍍膜設(shè)備。1、電流和電壓檢測器以及先進(jìn)的反饋控制技術(shù)使鍍...

輥壓機(jī)采用垂直管道進(jìn)料，屬于流動(dòng)性料床。物料循環(huán)擠壓處理過程中，雙輥邊緣物料不易受限、易產(chǎn)生側(cè)漏。在輥壓機(jī)推廣應(yīng)用初期，由于使用斜插板控制入機(jī)物料量，料床受限程度較差，進(jìn)料比例調(diào)控不夠靈敏。MSK-MR100DC是一款可通過UL/CSA認(rèn)證的電動(dòng)輥壓機(jī)，此設(shè)備軋輥尺寸為：Φ100mm×100mm，采用的是可變速24VDC電器驅(qū)動(dòng)，所以可在Ar氣環(huán)境中使用。本軋機(jī)特別適合對(duì)電池極片進(jìn)行輥軋，常常用于鋰離子電池和鈉離子電池的制備。軋輥參數(shù)：1.兩軋輥采用優(yōu)質(zhì)碳素鋼制作，并...

雙溫區(qū)管式爐可放置在工作臺(tái)上，以適合員工的工作高度。工作臺(tái)的有效負(fù)載應(yīng)大于200kg。在安裝過程中，插入爐內(nèi)的深度為25mm，并且將N梯度補(bǔ)償線連接到溫度控制儀器。注意：應(yīng)該先安裝石英管，然后再安裝熱電偶。熱電偶不應(yīng)與石英管接觸。電爐和控制柜整體接地，接地線的接地電阻應(yīng)小于4Ω。雙溫區(qū)管式爐采用了新型的高性能，高節(jié)能的電爐，主要用于大學(xué)，研究院所，工礦企業(yè)等的實(shí)驗(yàn)和小批量生產(chǎn)。具有安全可靠，操作簡單，控溫精度高，保溫效果好，溫度范圍大，爐溫均勻性高的特點(diǎn)。，多個(gè)溫度區(qū)域，可選...

1111MicrosoftInternetExplorer402DocumentNotSpecified7.8磅Normal0涂膜機(jī)的配置目的是為了刮膜提供一致的重復(fù)性以及超低膜厚涂布。它以其恒溫、恒壓、恒速和針對(duì)薄膜底材提供的真空吸附功能為越來越多的用戶所關(guān)注。作為一個(gè)涂膜平臺(tái)，涂膜機(jī)本身并不控制膜厚，膜厚的控制是由搭配在涂膜機(jī)上的線棒或者制備器決定的。也因此，線棒及制備器的精度決定性的影響著涂膜的膜厚預(yù)期。但國內(nèi)涂膜機(jī)配套的線棒往往為了突出“性價(jià)比”而采用低價(jià)涂膜器，則就...

噴涂一直存在于我們的生活中，并已長期用于多種用途，包括噴涂裝飾性和保護(hù)性涂料。因此，這是材料科學(xué)家可用于薄膜制備的一種工具。在噴涂中，噴嘴尺寸，噴涂形狀，從噴嘴到基材的距離，噴涂速度以及噴涂過程中基材的加熱是可以控制以實(shí)現(xiàn)效果的重要參數(shù)。超聲波霧化模塊使用超聲波噴嘴，可以使噴霧溶液均勻化，有效控制液滴的大小（噴嘴頻率會(huì)影響液滴的大小），并且可以分配微霧量，從而確保成分和結(jié)構(gòu)的均勻性以及產(chǎn)生的膠片和圖案的準(zhǔn)確性。物料浪費(fèi)保持在一定水平，設(shè)備操作員的風(fēng)險(xiǎn)很小。超聲波霧化模塊的工作...

談到磁控濺射，首先就要說濺射技術(shù)。濺射技術(shù)是指使得具有一定能量的粒子轟擊材料表面，使得固體材料表面的原子或分子分離，飛濺落于另一物體表面形成鍍膜的技術(shù)。被粒子轟擊的材料稱為靶材，而被鍍膜的固體材料稱為基片。首先由極板發(fā)射出粒子，這些粒子一般是電子，接著使它們?cè)谕怆妶黾铀傧屡c惰性氣體分子一般是氬氣分子(即Ar原子)碰撞，使得其電離成Ar離子和二次電子。Ar離子會(huì)受到電場的作用，以高速轟擊靶材，使靶材表面原子或分子飛濺出去，落于基片表面沉積下來形成薄膜。磁控濺射就是在外加電場的兩...