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  • 2021

    4-20

    雙靶磁控濺射儀主要由陶瓷靶/電解液制備部分,電極膜沉積系統和惰性氣氛手套箱組成,主要組件包括有機/金屬源蒸發沉積室,真空排氣系統和真空測量系統,蒸發源,樣品加熱溫度控制,電氣控制系統,氣體分配系統,高溫燒結爐,手套箱等零件。通過采用其中真空沉積室被手套箱包裹的結構模型,將熱蒸發沉積室放置在手套箱中。在水和氧氣≤1PPM的氣氛中,可以更方便地完成:更換樣品,更換蒸發材料,連續制備鋰和金屬薄膜,陶瓷燒結和電池包裝;沉積室也可以通過過渡室取出。由于保護了惰性氣氛,因此在實驗中可以提...

  • 2020

    10-27

    高溫高壓爐是一種電爐,它利用電極電弧產生礦石和金屬的高溫冶煉,氣體放電時形成電弧時,能量集中,溫度可達3000℃以上,它能有效去除硫,磷等雜質,提供鋼材,易于控制爐溫,設備占地面積小,適用于冶煉優質合金鋼。高溫高壓爐除塵一般在電弧爐上方使用錐形煙灰捕集器,煙塵收集器通過風扇連接到除塵設備,該風扇可以將灰塵吸收到集塵袋中。鼓風機將空氣吹到電弧爐的下部,便于清潔電弧爐時使用;它不僅可以減少環境污染,改善工作環境,還可以回收原材料。過濾材料根據煙氣粉塵的特性進行定制,并縫入電弧爐集...

  • 2020

    9-26

    超聲波霧化模塊是使用超聲波霧化原理工作的組件,它通常用作加濕產品的核心組件,因此也稱為超聲霧化配件,稱為霧化配件。它廣泛用于家庭濕度調節,工業加濕和呼吸道疾病的醫學治療。霧化過程中會釋放出大量負離子,這些負離子將與空氣中漂浮的煙霧和灰塵結合在一起,靜電處理將沉淀并過濾掉它們,從而可以有效去除有害物質和氣味。超聲波霧化模塊的原理:壓電陶瓷板安裝在水容器的底部,驅動控制電路產生與霧化板的諧振頻率一致的驅動電壓。當驅動電壓施加到霧化板上時,霧化板將產生振蕩能量。在水表面的情況下,大...

  • 2020

    8-24

    人們使用的移動屏幕的光滑手感來自AF技術,該技術具有疏水性,疏水性,抗指紋和自清潔功能。AF熱噴涂鍍膜設備是一種薄膜技術,利用高壓將AF溶液均勻地噴涂在產品表面。該設備具有操作簡單,連續運行,環保無污染,效率高,質量高,自動化程度高的優點。1、防污染:防止指紋或油漬附著在產品表面,易于清潔;2、耐刮擦:表面光滑,防止用戶被刮擦;3、耐磨性:耐磨性;4、水滴角:大于110度;5、耐汗測試:大于100度;6、熱噴涂鍍膜設備輕巧,可以在現場使用;7、過程靈活,操作程序少。它可以快速...

  • 2020

    7-27

    等離子鍍膜設備是一種基于直流輝光放電的鍍膜設備,它采用了一種新的四氧化PCVD方法來獲得薄膜。它不同于傳統的濺射和蒸發,解決了薄膜的顆粒和熱損傷問題。它可用于在SEM和FE-SEM樣品上涂覆導電膜或在TEM樣品上涂覆支撐膜。涂層的厚度范圍從幾納米到幾百納米,甚至小于1納米。1.自動控制,只需要設定涂膜厚度,涂裝過程即可自動完成。2.記憶存儲器可以拆卸:具有密封結構,可以冷凍保存。3.涂覆時間短:薄膜厚度僅需幾秒鐘即可達到納米級。4.配備互鎖電路:一旦OsO4氣體進入腔體,如果...

  • 2020

    6-23

    雙溫區管式爐是CE認證的管式爐,溫度可達1200℃,通過調節兩個溫度區的溫度控制程序,爐管內的溫度場可以形成溫度梯度。兩個溫度區由兩個獨立的溫度控制系統控制,并且兩個溫度區均已編程為溫度控制。該系列管式爐可用于生長納米材料并通過CVD制備各種薄膜。雙溫區管式爐是目前的常用產品。它以硅鉬棒為發熱元件,采用雙層殼體結構和溫度控制儀,可進行30段程序溫度控制,移相觸發和硅控控制。該爐由氧化鋁多晶纖維材料制成。爐管的兩端用不銹鋼法蘭密封。不銹鋼法蘭配有空氣噴嘴,閥門和壓力表,抽真空時...

  • 2020

    5-26

    雙溫區管式爐是一種實驗電爐,其裝卸采用間歇式手動裝卸,裝載時,將物料箱放在料盆的支架上,打開并取出爐管一端的密封端蓋,將物料箱支架與物料箱一起放置,然后將密封端蓋安裝在爐膛上。爐管法蘭并擰緊緊固螺栓。然后引入工藝氣氛,直到爐管中的氧氣含量達到工藝要求為止。產品燒結過程完成后,應繼續少量的工藝氣氛,并降低溫度直至爐內溫度低于工藝要求,然后可以打開爐管的密封端蓋取下淘汰產品。那么如何正確應用呢?1.樣品安裝和支撐框架的導熱系數應低,以確保測試樣品,安裝和支撐框架處于絕緣狀態。2....

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