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EQ-TM106膜厚監測儀是采用石英晶體振蕩原理，結合先進的頻率測量技術，進行膜厚的在線監測。主要應用于MBE、OLED熱蒸發、磁控濺射等設備的薄膜制備過程中，對膜層厚度及鍍膜速率進行實時監測。根據實時速率可以輸出PWM模擬量，作為膜厚傳感器使用，與調節儀和蒸發電源配合實現蒸發源的閉環速率控制。
VTC-2DC是一款小型的直流（DC）等離子體磁控濺射鍍膜儀系統，系統中包含了所有所需的配件，如500W（600V）的DC電源、2英寸的磁控濺射頭、石英真空腔體、真空泵和溫度控制器等。對于制作一些金屬薄膜，它是一款物美價廉的實驗手。
VTC-2RF是一款小型的射頻（RF）等離子體磁控濺射鍍膜儀系統，系統中包含了所有所需的配件，如300W（13.5MHz）的RF電源、2“的磁控濺射頭、石英真空腔體、真空泵和溫度控制器等。對于制作一些金屬薄膜及非金屬薄膜，它是一款物美價廉的實驗幫手。
VTC-1RF是一款小型臺式單靶等離子濺射儀（射頻磁控型），配有1英寸的磁控等離子濺射頭和射頻（RF）等離子電源，此款設備主要用于制作非導電薄膜，特別是一些氧化物薄膜。對于新型非導電薄膜的探索，它是一款廉價并且高效的實驗幫手。
VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀是一款帶有兩個靶頭的磁控濺射鍍膜儀，其中一個靶頭采用直流（DC）濺射，可濺射金屬靶材制備金屬膜，另一個采用射頻（RF）濺射，可濺射金屬和氧化物靶材，制備金屬或氧化物膜.設備上安裝有薄膜測厚儀可以實時監測薄膜的厚度。此設備可制作各種單層或多層薄膜，如鐵電、導電，合金，半導體，陶瓷，介電，光學，氧化物和PTFE薄膜等。而且設備體積較小操作方便，是一套理想的實驗工具。
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