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HVMSS-SPC-2是一款可安裝直徑為2英寸靶材的磁控濺射頭，可適用的靶材種類較廣，如金屬/絕緣靶材或磁性/非磁性靶材。環形NdFeB永磁體安裝在濺射頭上，以保證濺射鍍膜的效率和均勻性。此款濺射頭可與DC或RF電源配合使用。
HVMSS-SPC-1-LD是一款磁控濺射頭，可安裝直徑為1英寸的靶材。可與直流、脈沖直流和射頻電源相匹配，以至于可以濺射各種靶材（如金屬、陶瓷、磁性和非磁性靶材等）。而且高真空的結構設計，可提高鍍膜質量。
本公司提供高真空腔體，客戶可自行為一些實驗搭建真空系統，如等離子濺射，CVD或ALD等實驗，同時也可作為高真空儲存箱。
RF-100-LD是一款小型手動匹配100WRF（射頻）電源，頻率為13.56MHz.此設備設計專門與本公司的1英寸的磁控濺射頭配用，可搭建起一套比較廉價的濺射鍍膜系統，用于制作非導電薄膜。
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