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VTC-5RF是一款5靶頭的等離子射頻磁控濺射儀，針對于高通量MGI（材料基因組計劃）薄膜的研究。特別適合用于探索固態電解質材料，通過5種元素，按16種不同配比組合。
射頻等離子磁控濺射鍍膜儀是一款小型的射頻（RF）等離子體磁控濺射鍍膜儀系統，系統中包含了所有所需的配件，如300W（13.5MHz）的RF電源、2“的磁控濺射頭、石英真空腔體、真空泵和溫度控制器等。對于制作一些金屬薄膜及非金屬薄膜，它是一款物美價廉的實驗幫手。
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